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                產(chǎn)品中心您現在的位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品展示 > 長(cháng)度力學(xué)測量?jì)x器設備 > 膜厚測量?jì)x器 > FR1700AG防眩層膜厚儀

                AG防眩層膜厚儀

                更新時(shí)間:2023-07-17

                簡(jiǎn)要描述:

                AG防眩層膜厚儀: 按照客戶(hù)需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。
                AG防眩層膜厚儀 是一個(gè)模塊化和可擴展平臺的光學(xué)測量設備,可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。
                AG防眩層膜厚儀 是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。
                比如:
                吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

                訪(fǎng)問(wèn)次數:2245廠(chǎng)商性質(zhì):代理商

                1. 產(chǎn)品概述

                AG防眩層膜厚儀: 按照客戶(hù)需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。

                AG防眩層膜厚儀 是一個(gè)模塊化和可擴展平臺的光學(xué)測量設備,可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。

                AG防眩層膜厚儀 是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

                比如:

                吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等

                2. AG防眩層膜厚儀應用

                大學(xué)&研究實(shí)驗室、半導體行業(yè)、高分子聚合物&阻抗表征、電介質(zhì)特性表征、

                生物醫學(xué)、硬涂層,陽(yáng)極氧化,金屬零件加工、、光學(xué)鍍膜、非金屬薄膜等等…

                AG防眩層膜厚儀可由用戶(hù)按需選擇裝配模塊,核心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

                通過(guò)不同模塊組合,蕞終的配置可以滿(mǎn)足任何終端用戶(hù)的需求。

                3. 膜厚儀規格(Specificatins


                Model

                UV/Vis

                UV/NIR -EXT

                UV/NIR-HR

                D UV/NIR

                VIS/NIR

                D Vis/NIR

                NIR

                光譜范圍  (nm)

                200 – 850

                200 –1020

                200-1100

                200 – 1700

                370 –1020

                370 – 1700

                900 – 1700

                像素

                3648

                3648

                3648

                3648 & 512

                3648

                3648 & 512

                512

                厚度范圍

                1nm – 80um

                3nm – 80um

                1nm – 120um

                1nm – 250um

                12nm – 100um

                12nm – 250um

                50nm – 250um

                測量n*k 蕞小范圍

                50nm

                50nm

                50nm

                50nm

                100nm

                100nm

                500nm

                準確度*,**

                1nm or 0.2%

                1nm or 0.2%

                1nm or 0.2%

                1nm or 0.2%

                1nm or 0.2%

                2nm or 0.2%

                3nm or 0.4%

                精度*,**

                0.02nm

                0.02nm

                0.02nm

                0.02nm

                0.02nm

                0.02nm

                0.1nm

                穩定性*,**

                0.05nm

                0.05nm

                0.05nm

                0.05nm

                0.05nm

                0.05nm

                0.15nm

                光源

                氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

                鎢鹵素燈(內置)

                光斑 (直徑)



                350um (更小光斑可根據要求選配)



                材料數據庫




                > 600 種不同材料




                4. 膜厚儀配件


                電腦

                13~19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

                聚焦模塊

                光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

                薄膜/比色皿容器

                在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量(選配)

                接觸式探頭

                用于涂層厚度測量和光學(xué)測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品(選配)

                顯微鏡

                用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量(選配)

                Scanner  (motorized)

                帶有圓晶卡盤(pán)的PolarR-Θ)或 CartesianX-Y)自動(dòng)化樣品臺可選,PolarR-Θ)樣品臺支持反射率測量,CartesianX-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量(選配)

                積分球

                用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射(選配)

                手動(dòng) X-Y 樣品臺

                測量面積為 100mmx100mm 200mmx200mm x - y 手動(dòng)平臺(選配)

                加熱模塊

                嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過(guò)FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).(選配)

                液體模塊

                聚四氟乙烯容器,用于通過(guò)石英光學(xué)窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中(選配)

                流通池

                液體中吸光率、微量熒光測量(選配)

                5. 膜厚儀工作原理

                白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數。

                * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。



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